先進封裝材料量產 山太士H2拚轉盈

法人預估，山太士下半年營收相比上半年有機會成長50％，營運可望轉盈。圖／本報資料照片

山太士（3595）扇出型基板／晶圓級封裝（FOPLP／FOWLP）等先進封裝製程應用材料、及製程問題整合方案，其中應用於玻璃基板封裝材料，已進入材料驗證及試產階段。

法人預估，隨着新產品量產，山太士下半年營收相比上半年有機會成長50％，營運可望轉盈。

山太士轉型爲半導體材料供應商，在晶圓減薄、晶圓研磨、暫時接着、雷射解離、晶圓及封裝測試等製程提供產品，協助客戶提升良率及簡化製程。

山太士表示，使用於先進製程中的材料需歷經多種酸、鹼、蝕刻液及電鍍液，還需歷經高低溫的循環制程及高真空的PVD製程，對於製程材料是嚴苛的挑戰。線路製程完成後，若要移除相關材料也必須達到製程簡易且不會殘留的要求。

玻璃基板封裝從技術上又區分爲先晶片製程（Chip first）及後晶片製程（Chip last）。不論採行先晶片或後晶片製程都會面臨到與扇出型晶圓級封裝一樣，線路增層及封裝後產生的基板翹曲問題。

晶圓及玻璃基板翹曲問題因擾業界已久，過去在抑制翹曲採行鋼板載具或是玻璃增厚方式，但良率一直遇到瓶頸。

山太士成立半導體先進材料研發中心，將扇出型多層線路翹曲抑制方案導入面板級玻璃基板RDL封裝製程，在晶圓及玻璃基板翹曲抑制及製程中取得重大突破。以370mm*470mm先晶片製程玻璃基板爲例，採用山太士抗翹曲抑制方案的新型材料（Balance Film）後，可控制0.7mm厚的玻璃基板，免除厚重鋼板載具，歷經RDL線路製程仍可有效抑制翹曲，同時簡化多道製程工藝，讓良率大幅提升，客戶可採行通用厚度0.7mm或0.5mm玻璃基板，實現玻璃基板封裝量產可行性。

山太士聚焦於先進封裝製程材料的研發，在FOWLP及FOPLP製程中提供雷射解離的雷射解膠材料，基板及晶圓固定用的暫時接着材料、熱解離材料、UV解離材料以及晶圓和基板減薄、切割製程中使用的研磨膠帶和切割膠帶。這些先進製程材料皆已開發完成並陸續通過客戶驗證，在下半年陸續導入量產，挹注營運成長動能。