中一科技獲得發明專利授權：“一種真空鍍膜設備及其使用方法”

證券之星消息，根據企查查數據顯示中一科技（301150）新獲得一項發明專利授權，專利名爲“一種真空鍍膜設備及其使用方法”，專利申請號爲CN202310474679.7，授權日爲2024年1月12日。

專利摘要：本發明提供一種真空鍍膜設備及其使用方法，屬於真空鍍膜技術領域，該真空鍍膜設備由鍍膜室、真空泵、鍍膜機、旋轉輸送機構、帶輸送機構以及密封機構組成。本發明基於旋轉送料方式將基材經進料口輸送至鍍膜室內，繼而通過絲桿螺母傳動部件、上驅動部件以及下驅動部件同步實現側向密封板、上密封板以及下密封板動作，繼而將基材以及承託部完全密封在進料口內，繼而進行抽真空以及鍍膜處理，鍍膜結束後，再次旋轉輸送鍍膜後的基材，直至完成下料，最終完成一個工序，在上述工序中，無需頻繁地進行上料以及下料等操作，簡單便捷，其效率得到有效提高。

今年以來中一科技新獲得專利授權2個。結合公司2023年中報財務數據，2023上半年公司在研發方面投入了5507.56萬元，同比增1.23%。

數據來源：企查查

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