特思迪申請一種 Max 相 TiAlC 材料的拋光專利，簡化拋光工藝

金融界 2024 年 12 月 20 日消息，國家知識產權局信息顯示，北京特思迪半導體設備有限公司申請一項名爲“一種 Max 相 TiAlC 材料的拋光方法及所製備的 Max 相 TiAlC 拋光材料”的專利，公開號 CN 119141332 A，申請日期爲 2024 年 11 月。

專利摘要顯示，本發明涉及MAX 相材料加工技術領域，具體涉及一種 Max 相 TiAlC 材料的拋光方法及所製備的 Max 相 TiAlC 拋光材料。本發明提供了一種 Max 相 TiAlC 材料的拋光方法，包括如下步驟：採用拋光墊和拋光液進行拋光，拋光液中磨料爲金剛石，金剛石的質量爲拋光液質量的 0.1wt%~5wt%，拋光液中金剛石的粒徑爲 30nm~250nm；拋光墊的硬度爲邵氏硬度 A30~90 度；拋光墊的密度爲 0.3~0.7g/cm2。本發明提供的 Max 相 TiAlC 材料的拋光方法，利用拋光墊代替固結磨粒的研磨盤加工，大大簡化了工藝。

本文源自：金融界

作者：情報員