上海衍梓智能申請半導體工藝參數處理專利，減少對操作人員依賴

金融界2024年12月18日消息，國家知識產權局信息顯示，上海衍梓智能科技有限公司申請一項名爲“種半導體工藝參數處理系統與方法”的專利，公開號CN 119126725 A，申請日期爲2024年9月。

專利摘要顯示，本發明公開了一種半導體工藝參數處理系統與方法。上述參數處理系統和反應腔配合設置，其包括半導體設備功能模塊、內存儲有多個工藝配方的工藝配方數據庫、設備參數數據庫、輸入單元以及工藝參數確定模塊。設備參數數據庫內存儲有半導體設備功能模塊根據工藝配方設置的實際參數。其中，實際參數=輸出數值+補償數值。本發明於生產配方與半導體生產設備具體參數之間建立關聯，使得工藝要求的參數與實際運行工藝的半導體設備的功能模塊的自身的性能參數相關聯，從而在實施具體工藝時，快速確定當前工藝配方中半導體設備功能模塊的實際需要設置的參數，減少對具體操作人員的依賴的目的，保證產品質量的穩定性，提高生產效率。

本文源自：金融界

作者：情報員