凌瑋科技申請光學薄膜用二氧化硅開口劑的製備方法專利，光學薄膜用二氧化硅孔容大、粒徑小、電導率低，有很好的開口性和透明性

金融界2024年7月2日消息，天眼查知識產權信息顯示，廣州凌瑋科技股份有限公司申請一項名爲“一種光學薄膜用二氧化硅開口劑的製備方法“，公開號CN202410265781.0，申請日期爲2024年3月。

專利摘要顯示，本發明屬於光學薄膜開口劑的技術領域，具體涉及一種光學薄膜用二氧化硅開口劑的製備方法，包括如下步驟；S1、保持反應釜A的溫度爲200～300℃、壓力爲0.3～1.0Mpa，將水玻璃溶液W1和硫酸F1同時注入到反應釜A中，並保持pH 0.5～2.0，形成二氧化硅溶膠；S2、將硅溶膠轉至反應釜B中，保持溫度爲15～25℃，同時乳化、分散，並調節pH爲10～12，再將水玻璃溶液W2和硫酸F2同時加入到反應釜B中，加完後升溫至80～100℃老化，調節pH爲3.0‑5.0，經陳化形成二氧化硅沉澱；S3、將沉澱洗滌，再進行溼法研磨；S4、對漿料進行噴霧乾燥即得。該方法合成的光學薄膜用二氧化硅孔容大、粒徑小、電導率低，在光學薄膜領域具有很好的開口性和透明性，已成功應用於光學薄膜領域。

本文源自：金融界

作者：情報員