Jim博士：EUV專利等於有了光刻機？對於EUV光刻的基本認知誤區！

很多社交平臺網友對於技術發展的理解，可能停留在某某公司發表了一個專利的水平。

如果看到某個公司發表了一個EUV專利，就認爲它快要攻克光刻機，那就是一個典型的笑話。

比如，韓國三星2024年4月12日在中國的一個專利申請公開，其內容就是“極紫外光源”。

我們看下，三星的極紫外光源發生腔體設計，是不是很眼熟呀？

三星專利中間給出了每個模塊的詳細圖紙。

韓國三星的極紫外光源

不僅如此，三星還給出了一個極紫外光源的整機安裝系統圖。

那麼，三星的“極紫外光源裝置”到底說什麼呢？

其實，這個專利，要點是“防止或減少發生碎屑的可能性或者碰撞的可能性”，也就是通過腔體的幾何設計、內部低壓氫氣流的循環通道來降低二氧化碳激光轟擊液體Sn產生高溫等離子體過程中出現的各種碎片污染問題。

所以，同樣是極紫外光源裝置的中國專利，但是這篇專利並沒有涉及任何高功率EUV光發生器的技術。

其實，全球很多企業每年都會發表EUV光源技術專利，我之前便介紹過臺積電的EUV光源專利。這種技術更多的屬於企業的專利佈局的一部分，而並非其真正要做EUV光刻機的產業化。

臺積電的極紫外光源和光刻系統專利

大家想看看臺積電有多少極紫外光源專利嗎？

我們下期見！

臺積電2022年中國專利：極紫外光源