佳能 搶攻晶片製造設備

日本相機暨印表機大廠佳能（Canon） 準備搶攻先進半導體制造設備市場，將推出不用光線刻蝕，改用壓印的新機器，價格號稱比荷商艾司摩爾（ASML）的設備少了一個零、用電量最多減少九成，最快將在今年出貨。

英國金融時報報導，佳能去年十月中發佈的奈米壓印微影（nanoimprint lithography）技術，不用光線刻蝕，而是將晶片設計戳印在矽晶圓上。佳能說，這種科技已經發展超過十五年，但至今纔有商業可行性。

高度精密的極紫外光（EUV）設備，是臺積電、三星、英特爾等生產最新一代晶片的必需品，ASML是唯一能夠生產這種設備的集團，但ASML設備每臺要價超過一點五億美元，交貨的前置時間又長。

不過，佳能的最大挑戰之一，是要提高進一步微縮製程的成功率。該公司從五納米起跳，目標要達到二奈米。佳能負責開發新微影設備的武石洋明不願透露奈米壓印設備的潛在良率，分析師說，良率需接近百分之九十，才能與EUV競爭。