光刻機(膠)概念26日主力淨流出1.44億元，晶方科技、南大光電居前

6月26日，光刻機(膠)概念上漲3.11%，今日主力資金流出1.44億元，概念股69只上漲，5只下跌。

主力資金淨流出居前的分別爲晶方科技（8354.53萬元）、南大光電（2207.33萬元）、騰景科技（1718.55萬元）、鼎龍股份（1636.95萬元）、百川股份（1484.72萬元）。

本文源自：金融界

作者：主力情報