汎銓秀秘技High NA光阻液、埃米晶片和矽光子檢測分析拔頭籌

泛銓董事長柳紀綸（左三）今日率先經營團隊包括營運長周學良（左起）、技術長陳榮欽和營運長廖永順向外界揭露公司在埃米世代、矽光子、AI領域的佈局。記者簡永祥／攝影

沈寂半年多的材料分析大廠泛銓（6830）今日由董事長柳紀綸帶領經營團隊對外揭露公司在埃米、AI晶片和矽光子三大領域佈局。柳紀綸透露3年前就已和客戶進入「埃米」邏輯先進製程研發，他並秀出今年2月在美國舉行的國際光電論壇中，全球微影設備艾司摩爾（ASML）首次針對高數值孔徑（High NA）中即引用由泛銓所做的High NA EUV光阻劑的材料分析結果，印證進入埃米制程後，爲泛銓取得技術領先優勢。

柳紀綸強調，這三年多來和晶圓客戶緊密合作，甚至協助客戶在矽光子檢測及相關矽光電路中有關光波導定位偵測、斷光和光衰退等材料、故障和可靠度分析，成爲業界唯一獨攬矽光子所有檢測和分析的廠商，併成功吸引AI晶片大廠將AI晶片開發檢模分析實驗室設計泛銓廠內，讓泛銓掌握AI發展必須AI晶片模擬、埃米先進製程和矽光子檢測及材料分析等龐大機會。

他強調，泛銓就是爲配合客戶發展新世代技術，纔會去年大舉購置30臺先進儀器和設備，但經歷這些過程，今年將是泛銓資本支出最高峰，未來隨着公司新進員工學習曲線逐步成熟，即可隨着相關領域業務量攀升，推升營收和獲利表現。

柳紀綸透露，大客戶首套High NA設備已預定下個月抵臺，其中艾司摩爾秀出的High NA光阻液分析，即是由泛銓利用低溫原子層鍍膜技術（LT-ALD）所做的材料分析。

至於矽光子業務，他強調，矽光子是光學元件封裝（CPO）而目前參與矽光子產業最前端且技術難度最高的檢測項目 ，泛銓應是目前參與矽光子聯盟30多家廠中少數真正有營收的廠商。

他透露目前泛銓在先進製程材料分析營收佔比約65%，未來將隨客戶推進至埃米世代，營收挹注更明確顯現。而矽光子檢測和分析，將在第4季升溫，估可佔營收約10%，隨客戶預估2026年完備，明年營收成長幅度會非常可觀。

至於矽光子檢測技術和團隊，柳紀綸也強調和客戶長期緊密合作，關鍵技術成員也有非常長的資歷，客戶黏着度及員工向心力深厚，不擔心同業挖角。

泛銓預估隨技術佈局明年大放異彩，營收和獲利表現有機會回到2023年的水準，等於明年獲利將比今年倍增，2026年將再上層樓。

艾司摩爾秀出的High NA EUV光阻液材料分析即交由泛銓施作，透露在埃米世代奪得先機。圖/泛銓提供