阿維塔申請模型渲染技術相關專利，有效減少渲染引擎的渲染壓力和內存佔用

金融界2024年6月26日消息，天眼查知識產權信息顯示，阿維塔科技（重慶）有限公司申請一項名爲“模型渲染方法、裝置、設備、存儲介質及程序產品“，公開號CN202410477907.0，申請日期爲2024年4月。

專利摘要顯示，本申請公開了一種模型渲染方法、裝置、設備、存儲介質及計算機程序產品，所述方法包括：獲取待生成反射效果的P個初始模型，以及用於產生反射效果的參考模型；基於所述P個初始模型和所述參考模型，確定與所述P個初始模型對應的P個反射模型；採用目標渲染攝像機對所述P個反射模型進行反射效果渲染，得到第一渲染圖像；採用所述目標渲染攝像機對所述P個初始模型和所述參考模型進行正向效果渲染，得到正向渲染結果；將所述第一渲染圖像和所述正向渲染結果進行融合，得到目標渲染圖像。本申請方案不僅可以實現模型的正向效果和反射效果的渲染，而且能夠有效減少渲染引擎的渲染壓力和內存佔用，達到渲染效果和性能的平衡。

本文源自：金融界

作者：情報員